专利名称: 自适应光学双轴扫描成像的非等晕像差校正方法与装置
专利类别: PCT专利
申请号: PCT/CN2021/100040
申请日期: 2021-06-15
专利号:
第一发明人: 何益
其它发明人: 陈一巍,邢利娜,孔文,史国华
国外申请日期:
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专利证书号:
专利摘要:
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