专利名称: 一种超声成像中的近场影响消除方法
专利类别: 发明专利
申请号: 202310610339.2
申请日期: 2023-05-26
第一发明人: 李向新
其它发明人: 邵维维,沈军,崔崤峣,焦阳,黄文昌,程相州